樣品拋光機(jī)是用于制作光學(xué)顯微鏡樣品、電子顯微鏡樣品以及強(qiáng)度試件的加工機(jī)械，用于實(shí)驗(yàn)室、實(shí)驗(yàn)室、質(zhì)量控制部門(mén)等進(jìn)行測(cè)試、檢驗(yàn)和分析。

為了進(jìn)行各種目的的拋光，有多種類(lèi)型的拋光板、拋光片、拋光輪（布等）、拋光劑和夾具。許多設(shè)備相對(duì)較小，可以安裝在桌面上，并且有易于操作的手動(dòng)機(jī)器，根據(jù)目的和用途有多種類(lèi)型和產(chǎn)品，例如類(lèi)型和夾具類(lèi)型。

樣品拋光機(jī)的應(yīng)用

樣品拋光機(jī)用于執(zhí)行以下拋光過(guò)程。

1.鏡面拋光

此工藝使工件表面呈現(xiàn)鏡面狀。主要用于利用光學(xué)顯微鏡和電子顯微鏡進(jìn)行表面觀察試樣的制備。

2. 創(chuàng)建薄片

該過(guò)程包括減薄工件并將其拋光至所需的厚度。主要用于巖石、礦物、土壤、陶器、骨骼等的制備，以及TEM樣品和EPMA樣品在前處理過(guò)程中的細(xì)化。

3. 表面找平、尺寸標(biāo)注、平行度、平面找平

這是一種拋光工藝，以獲得表面平整度，這是加工的標(biāo)準(zhǔn)，以及必要的尺寸、平行度和平面度。主要用于制備強(qiáng)度試驗(yàn)和拉伸試驗(yàn)的樣品。

4. 表面粗糙度調(diào)整

這是一種拋光工藝，以獲得所需的表面粗糙度。主要用于制備強(qiáng)度試驗(yàn)和摩擦磨損試驗(yàn)的樣品。

樣品拋光機(jī)原理

1.機(jī)械拋光（使用游離磨粒和固定磨粒進(jìn)行拋光） 

通過(guò)物理動(dòng)作進(jìn)行拋光。

自由磨料加工法
將磨粒直接施加到平臺(tái)或拋光輪上進(jìn)行拋光的方法。 磨料（磨粒）的把持力較弱，拋光劑（磨粒）一邊滾動(dòng)（滾動(dòng)）一邊作用于拋光表面，產(chǎn)生拋光效果。 與固定磨粒相比，對(duì)工件造成的損傷較小，適合最終拋光。 由于磨粒因破碎而變小，并且隨著磨粒從加工表面流出并變小，拋光效率降低，因此需要定期供給磨粒。 主要用于研磨和拋光（拋光）。

固定磨料加工法
是指用結(jié)合劑等固定磨粒進(jìn)行拋光的方法。 具有較強(qiáng)的保留磨料（磨粒）的能力，適合高效拋光。 與使用游離磨粒的拋光方法相比，該方法對(duì)工件造成更大的損傷，并且由于磨粒磨損（破碎）和堵塞而導(dǎo)致磨削功率下降。 需要定期更換拋光片并磨利拋光盤(pán)。 主要用于粗拋光。

2.利用化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行拋光

將工件浸入化學(xué)品中以溶解并拋光表面。主要用于去除機(jī)械拋光造成的損傷層，制備金相樣品。

3.化學(xué)機(jī)械拋光

化學(xué)機(jī)械拋光（英文：Chemical Mechanical Polishing）是涉及化學(xué)作用的機(jī)械拋光（物理拋光）的總稱(chēng)，是通過(guò)物理和化學(xué)作用使工件表面平整、光滑的拋光技術(shù)。它用作基材的最終拋光方法，目的是去除受損層并使表面光滑。

4.電解拋光

這是一種將工件浸入電解液中，通以電流，使工件表面熔化，獲得拋光效果的方法。僅適用于某些金屬，例如不銹鋼和鋁。

樣品拋光機(jī)的類(lèi)型

1.手動(dòng)拋光機(jī)

這是一種簡(jiǎn)單而緊湊的樣品拋光機(jī)，可以用手夾持和拋光工件。用于粗拋光至精拋光，根據(jù)加工目的需要技巧。 主要采用機(jī)械拋光。

2.夾具式拋光機(jī)

根據(jù)拋光的目的，可以使用樣品架和導(dǎo)臂等夾具（樣品架）來(lái)進(jìn)行高精度拋光。用于鏡面拋光、平行平面拋光等。 主要用于機(jī)械拋光，在某些情況下也可用于CMP。

3、電解拋光

該方法通過(guò)將工件浸入電解液中并施加直流電源來(lái)產(chǎn)生拋光效果。

如何選擇樣品拋光機(jī)

選擇樣品拋光機(jī)時(shí)，應(yīng)注意以下事項(xiàng)。

• 樣品尺寸（選擇能拋光待拋光樣品尺寸的拋光機(jī)） 

• 樣品材質(zhì)（選擇適合材質(zhì)的拋光板、拋光片、拋光劑等） 

• 拋光目的（拋光方法、夾具的選擇等） 

• 精度（提前明確表面粗糙度等要求）